根据您提供的信息，日本《日经亚洲评论》的文章讨论了中国在芯片制造领域的发展，特别是中芯国际等中国顶尖芯片制造商在扩大14纳米和7纳米芯片产量方面的努力。文章强调了中国推动集成电路全产业链自主可控的经济路线图，以及中芯国际希望完全使用国产设备制造芯片的目标。
文章提到，尽管中国企业在多个前沿领域取得了显著进展，用本土设备取代外国工具，但在光刻技术方面仍面临挑战。光刻机对芯片性能至关重要，但非常复杂和昂贵，目前只有荷兰的阿斯麦、日本的佳能与尼康能生产。美国的出口管制限制了阿斯麦对华运送先进光刻机，这促使中国成为阿斯麦的竞争者之一。
上海微电子装备（集团）股份有限公司已开发出生产90纳米芯片的光刻机，华为也成为芯片制造设备行业的主要支持者。此外，上海宇量昇科技有限公司在中国多家顶尖研究机构的支持下，成为光刻技术领域的挑战者。这些公司的最终任务是开发国产EUV光刻机，并建立一个不受美国限制的独立生态系统。
文章还提到，美国的出口管制为中国半导体设备供应商创造了一个黄金时代，几乎所有中国顶尖芯片制造商都尽可能转向使用本土设备。尽管一些中国芯片制造商因使用本土设备导致产量下降，但这并未阻止他们继续试验。
综上所述，中国正在努力实现科技自立自强，特别是在芯片制造领域。虽然面临光刻技术的挑战，但中国企业正在积极研发和试验，以减少对外依赖并提高国内竞争力。
